جهاز البلازما المحرقية الكثيفة وسيلة واعدة لترسيب الأفلام الرقيقة – دراسة عددية لمميزات حزمة أيونات صادرة عن جهاز بلازما محرقية كثيفة
DOI:
https://doi.org/10.5281/zenodo.19344891الكلمات المفتاحية:
قبضة البلازما ، حزمة الأيونات، الأفلام الرقيقةالملخص
تمّ في هذا البحث إجراء دراسة نظرية لإمكانية استخدام أجهزة البلازما المحرقية الكثيفة كإحدى طرق ترسيب الأفلام الرقيقة وذلك بالاستفادة من تميّز هذه الأجهزة بتشكل قبضة البلازما التي تعتبر منبع أيوني. تمّ إيجاد عدد وطاقة أيونات الآزوت الناتجة عن جهاز البلازما المحرقية الكثيفة NX2 وتغيراتها مع تغيّر ضغط الغاز. كما تمّ إيجاد طيف طاقة الأيونات الناتجة وتحديد قيمة ضغط غاز الآزوت التي يتحقق عندها أعلى طاقة يحملها أيون الآزوت وحساب عدد الأيونات الواصلة إلى ركيزة التيتانيوم من أجل الحصول على الفلم الرقيق TIN.
التنزيلات
المراجع
[1] R. Ahmad, I. A. Khan, T. Hussain, and Z. A. Umar, “Plasma focus device: A novel facility for hard coatings,” in Plasma Science and Technology for Emerging Economies. Singapore: Springer, 2017, pp. 355–412.
[2] J. W. Mather, “Formation of a high-density deuterium plasma focus,” Physics of Fluids, vol. 8, no. 2, pp. 366–377, 1965.
[3] N. V. Filippov, T. I. Filippova, and V. P. Vinogradov, “Dense, high-temperature plasma in a noncylindrical Z-pinch,” Nuclear Fusion Supplement, vol. 2, pp. 577–587, 1962.
[4] E. J. Lerner, S. Krupakar Murali, D. Shannon, A. M. Blake, and F. V. Roessel, “Fusion reaction from greater than 150 keV ions in a dense plasma focus plasmoid,” Physics of Plasmas, vol. 19, Art. no. 032704, 2012.
[5] S. Lee, P. Lee, G. Zhang, X. Feng, V. A. Gribkov, M. Liu, A. Serban, and T. K. Wong, “High rep rate high performance plasma focus as a powerful radiation source,” IEEE Transactions on Plasma Science, vol. 26, pp. 1119–1126, 1998.
[6] S. Hussain, M. Shafiq, R. Ahmad, A. Waheed, and M. Zakaullah, “Plasma focus as a possible X-ray source for radiography,” Plasma Sources Science and Technology, vol. 14, pp. 61–69, 2005.
[7] M. A. Tafreshi, M. M. Nasseri, N. Nabipour, D. Rostamifard, and A. Nasiri, “Application of plasma focus device in fast industrial radiography,” Journal of Fusion Energy, vol. 33, no. 6, pp. 689–692, 2014.
[8] M. J. Inestrosa-Izurieta, P. Jauregui, and L. Soto, “Deposition of materials using a plasma focus of tens of joules,” Journal of Physics: Conference Series, vol. 720, Art. no. 012045, 2016.
[9] R. S. Rawat, V. Aggarwal, M. Hassan, P. Lee, S. V. Springham, T. L. Tan, S. Lee, “Nano-phase titanium dioxide thin film deposited by repetitive plasma focus: Ion irradiation and annealing based phase transformation and agglomeration,” Applied Surface Science, vol. 255, pp. 2932–2941, 2008.
[10] M. Sadiq, M. Shafiq, A. Waheed, R. Ahmad, and M. Zakaullah, “Amorphization of silicon by ion irradiation in dense plasma focus,” Physics Letters A, vol. 352, pp. 150–154, 2006.
[11] Z. P. Wang, H. R. Yousefi, Y. Nishino, H. Ito, and K. Masugata, “Preparation of silicon carbide film by a plasma focus device,” Physics Letters A, vol. 372, pp. 7179–7182, 2008.
[12] R. S. Rawat, M. P. Srivastava, S. Tandon, A. Mansingh, “Crystallization of an amorphous lead zirconate titanate thin film with a dense-plasma-focus device,” Physical Review B, vol. 47, pp. 4858–4862, 1993.
[13] Z. Y. Pan, R. S. Rawat, R. Verma, J. J. Lin, H. Yan, R. V. Ramanujan, P. Lee, S. V. Springham, and T. L. Tan, “Miniature plasma focus as a novel device for synthesis of soft magnetic FeCo thin films,” Physics Letters A, vol. 374, pp. 1043–1048, 2010.
[14] O. Mangla, S. Roy, and K. Ostrikov, “Dense plasma focus-based nanofabrication of III–V semiconductors: Unique features and recent advances,” Nanomaterials, vol. 6, pp. 4–16, 2016.
[15] J. N. Feugeas, E. C. Llonch, C. O. de Gonzalez, and G. Galambos, “Nitrogen implantation of AISI 304 stainless steel with a coaxial plasma gun,” Journal of Applied Physics, vol. 64, pp. 2648–2651, 1988.
[16] R. S. Rawat, W. M. Chew, P. Lee, T. White, and S. Lee, “Deposition of titanium nitride thin films on stainless steel AISI 304 substrates using a plasma focus device,” Surface and Coatings Technology, vol. 173, pp. 276–284, 2003.
[17] S. Lee and S. H. Saw, “Plasma focus ion beam fluence and flux—For various gases,” Physics of Plasmas, vol. 20, Art. no. 062702, 2013.
[18] S. Lee, “Radiative Dense Plasma Focus Computation Package: RADPF,” software package, 2011. [Online]. Available: http://www.plasmafocus.net/IPFS/modelpackage/File1RADPF.htm.
[19] S. Lee and S. H. Saw, “Scaling of ion beams from plasma focus in various gases,” presented at INTI International University, Nilai, Malaysia, Jun. 14, 2013.
[20] M. Hassan, A. Qayyum, R. Ahmad, R. S. Rawat, P. Lee, S. M. Hassan, G. Murtaza, and M. Zakaullah, “Dense plasma focus ion-based titanium nitride coating on titanium,” Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B, vol. 267, pp. 1911–1917, 2009.
[21] G. Sánchez and J. Feugeas, “The thermal evolution of targets under plasma focus pulsed ion implantation,” Journal of Physics D: Applied Physics, vol. 30, pp. 927–936, 1997.
التنزيلات
منشور
الرخصة
الحقوق الفكرية (c) 2023 مجلة الجامعة الوطنية الخاصة
هذا العمل مرخص بموجب Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
